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负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁

负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国(guó)家(jiā)知识产权局局长申长雨在新(xīn)闻发布会(huì)上表示,将统(tǒng)筹(chóu)推进各类知识产权法律法(fǎ)规和制(zhì)负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁度规(guī)则的制修订工(gōng)作。其中,修改完善(shàn)集成电路布(bù)图(tú)设(shè)计保护条(tiáo)例,适应大(dà)规(guī)模集成电路发展需要,助力芯片产业做大做强,服务数字(zì)经(jīng)济更好(hǎo)发展。

  加强(qiáng)大(dà)数据(jù)、人工智能、基因技术等新(xīn)领域新业态知识产权规(guī)则研究,助(zhù)力相关领域创新发展(zhǎn)。同(tóng)时,积极参(cān)与知识产权国际规(guī)则制定,更好对接高标准国际经(jīng)贸规则(zé),助力(lì)高水平对外(wài)开放。

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