IDC站长站,IDC站长,IDC资讯--IDC站长站IDC站长站,IDC站长,IDC资讯--IDC站长站

做出贡献,做出贡献与作出贡献的区别在哪

做出贡献,做出贡献与作出贡献的区别在哪 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日(rì)消息(xī),国家知识产(chǎn)权局局长申长雨在(zài)新闻发布会上表示,将统筹推进各(gè)类(lèi)知识产(chǎn)权法律法(fǎ)规和制度规则的制修订工(gōng)作。其中(zhōng),修(xiū)改完(wán)善(shàn)集成电路布图设计保护条例(lì),适应大规(guī)模集成电路发展(zhǎn)需要,助(zhù)力(lì)芯片产业做(zuò)大做强(qiáng),服务数字经(jīng)济更好(hǎo)发展。

  加强大(dà)数据、人工(gōng)智(zhì)能(néng)、基因技术等新领域新业态(tài)知识产权规则研(yán)究,助力相关(guān)领域创(chuàng)新发(fā)展。同时,积极参(cān)与知识产权国际规(guī)则制定,更好对接高做出贡献,做出贡献与作出贡献的区别在哪标准(zhǔn)国(guó)际经(jīng)贸规(guī)则(zé),助力高水(shuǐ)平(píng)对外开放。

未经允许不得转载:IDC站长站,IDC站长,IDC资讯--IDC站长站 做出贡献,做出贡献与作出贡献的区别在哪

评论

5+2=