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西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?

西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里? 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日(rì)消息,国家知识产权局局长申长雨在新闻(wén)发(fā)布会(huì西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?)上表示,将统筹推进各类知识产权法律法规(guī)和制(zhì)度规则的(de)制修订(dìng)工作。其中,修改完善集成(chéng)电路布图设计保护(hù)条例,适(shì)应大(dà)规模集成(chéng)电路(lù)发展(zhǎn)需要(yào),助力芯片产业做大(dà)做强(qiáng),服务数字经济更好发展。

  加强(qiáng)大(dà)数据、人(rén)工(gōng)智(zhì)能、基因技术等(děng)新领域新(xīn)业态(tài)知(zhī)识产权规则研究,助力(lì)相关领域创新(xīn)发展。同时,积极参与(yǔ)知(zhī)识产(chǎn)权国际规则制定,更好对接(jiē)高标准国(guó)际经贸(mào)规(guī)则(zé),助力高水平(píng)对外开(kāi)放(fàng)。

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